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わたしたちの事業について

薄膜マテリアル

アストロンは、当社独自の開発・生産技術と高いマーケティング力によって、顧客の生産工程・最終製品に必要不可欠な高機能性材料を提供しています。
今後も、更なる技術革新によって、顧客にとって存在感のあるパートナーとしての地位を確かなものとし、薄膜材料業界トップのポジションを確保していきます。
また、次世代を担う先端材料の開発にも注力しています。

product

薄膜マテリアル事業について

蒸着材料

deposited insulating material

低屈折率材料

中間屈折率材料

高屈折率材料

その他

応用分野

スパッタリング ターゲット

Sputtering target

酸化物

金属

合金

その他

応用分野

蒸着材料関連部品

Sputtering target

成膜関連部材

蒸着材料

真空蒸着用各種高純度蒸着材料を製造·販売しております。
ハースライナーに応じた形状·サイズの薄膜材料の製作も可能です。

顆粒TiO₂

扇形ZrO₂

顆粒状SiO₂

低屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
フッ化マグネシウム
MgF2
1.38
Q
R
R
フッ化カルシウム
CaF2
1.42
Q
Q
R
二酸化ケイ素
SiO2
1.46
R
R
R
MU1
SiO2+Al2O3
1.48
Q
Q
R

中屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
フッ化ランタン
LaF3
1.58
Q
Q
R
フッ化セリウム
CF3
1.63
Q
Q
R
酸化アルミニウム
Al2O3
1.63
R
R
R
酸化マグネシウム
MgO
1.70
Q
Q
R
MG-01
Al2O3+La2O3
1.70
Q
Q
R
酸化イットリウム
Y2O3
1.87
Q
Q
R

高屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
一酸化ケイ素
SiO
1.90
Q
R
R
酸化ハフニウム
HfO2
1.95
Q
R
R
酸化ジルコニウム
ZrO2
2.05
R
R
R
GL2
Ta2O5+ZrO2
2.10
Q
R
Q
五酸化タンタル
Ta2O5
2.10
Q
R
R
MU5
ZrO2+TiO2
2.10
R
R
Q
MU2
LaTiO3
2.10
Q
R
R
GL7
Ta2O5+TiO2
2.13
Q
R
R
MU2-C
LaTiO3
2.15
Q
R
R
五酸化ニオプ
Nb2O5
2.25
Q
Q
R
酸化セリウム
CeO2
2.35
Q
Q
R
フッ化マグネシウム
MgF2
1.38
R
Q
Q
一酸化チタン
TiO
2.35
Q
R
R
二酸化チタン
TiO2
2.35
Q
R
R
三酸化二チタン
Ti2O3
2.35
Q
R
R
MU3
Ti3O5
2.35
Q
R
R
硫化亜鉛
ZnS
2.4/1200nm
Q
Q
R
シリコン
Si
3.4/3000nm
Q
R
R
ゲルマニウム
Ge
4.4/2000nm
Q
R
R

その他

アルミニウム

aluminum

クロム

chromium

インジウム

indium

etc

etc

応用分野

TFT液晶

Thin-film-transistor LCD

タッチパネル

Touch panel

太陽電池

Solar cell

建築Low-Eガラス

Low-E glass

自動車ガラス

Automobile glass

スパッタリングターゲット

酸化物

ITOやNiOx、ZnO、NbOx、SiNbOxなど、多彩な材料を取り揃えております。配合比率の変更についてのご要望がございましたら、ぜひお気軽にご相談ください!

SiO₂ターゲット

ITOターゲット

ITOターゲット

製品名
純度
用途
Al2O3
4N
光学
HfO2
3N
光学
ITO
4N
ディスプレイ
Nb2Ox
4N
光学 加飾 車載
SiO2
4N、5N
半導体 光学
SnO2
4N
光学
Ta2O5
4N
光学
LiNbO3
4N
光学 
TiOx
4N
光学 加飾 車載
ZrO2
3N5
光学 加飾
SiAlOx
4N
光学 加飾 車載

金属

Tiターゲット

Moターゲット

Crターゲット

Cuターゲット

Tiターゲット

製品名
純度
用途
Al
4N 5N
半導体 光学 配線
Cr
4N
半導体 加飾 
Cu
3N
半導体  配線
Ni
4N
半導体 加飾 
Hf
3N
光学
Mo
4N 5N
半導体 光学
Nb
3N5
光学
Si
5N
半導体 光学 車載
Ta
3N5 4N
光学 加飾
Ti
3N 4N
半導体 電極 加飾 
Zr
3N5
光学 加飾

合金

当社は、各種金属、酸化物、合金の製造に加え、さまざまな接合技術を備えております。特にスパッタリングターゲットの材質に応じて、金属、有機材、さらには拡散接合といった多様なボンディング技術を用いることで、高品質かつ安定した製品をご提供しています。
また、お客様のニーズに柔軟に対応できる体制を整えており、小ロットや小サイズでの試作にも対応可能です。さらに、各種分析設備も充実しており、開発から製造まで一貫した品質管理を実現しています。
バッキングプレートにおいても、社内一貫製造体制を採用しており、短納期での対応を可能としています。迅速かつ高精度な製品づくりで、お客様の研究開発・製造を力強くサポートいたします。

Al合金ターゲット

SiAlターゲット

ZnAlターゲット

製品名
純度
用途
Al+Cu
4N
半導体  配線
Al+Si
4N
半導体 加飾 
Cr+Si
3N5 4N
半導体  加飾 
Cu+Ni
3N5 4N
半導体 加飾 
Cu+Zn
4N
光学
Ni+Cr
3N5 4N
半導体 加飾 
Ti+Al
3N5 4N
半導体 加飾
Ti+Cr
3N5 4N
半導体 加飾
Ti+Cu
3N5 4N
半導体 加飾

その他

応用分野

半導体産業

Semiconductor industry

ディスプレイ技術

Display technology

太陽電池の製造

Solar cell manufacturing

光学コーティング

Optical coating

蒸着材料関連部品

成膜関連部材

成膜関連部材として、真空蒸着などで使用されるガラス基材、モニタガラス、EBフィラメント、水晶振動子、碍子、ハースライナー(モリブデン・タングステン・無酸銅・アルミナセラミック・PBN・BN)を取り扱っております。

ご要望に合わせ、様々な形状の部品を少ロット・短納期で提供しております。

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ーー fu jian(福建)

Fujian Acetron

事業内容:蒸着材、ターゲット材の生産

Production of deposition materials and target materials.

PRODUCT

製品情報

MATERIAL

薄膜マテリアル

QUARTZ

石英加工部品

ADVANCED

先進機器材料

OTHER

その他