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わたしたちの事業について

薄膜マテリアル

アストロンは、当社独自の開発・生産技術と高いマーケティング力によって、顧客の生産工程・最終製品に必要不可欠な高機能性材料を提供しています。今後も、更なる技術革新によって、顧客にとって存在感のあるパートナーとしての地位を確かなものとし、薄膜材料業界トップのポジションを確保していきます。また、次世代を担う先端材料の開発にも注力しています。

product

薄膜マテリアル事業について

蒸着材料

deposited insulating material

低屈折率材料

中間屈折率材料

高屈折率材料

その他

応用分野

スパッタリング ターゲット

Sputtering target

酸化物

金属

合金

その他

応用分野

蒸着材料関連部品

Sputtering target

ハースライナー

蒸着材料

低屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
フッ化マグネシウム
MgF2
1.38
Q
R
R
フッ化カルシウム
CaF2
1.42
Q
Q
R
二酸化ケイ素
SiO2
1.46
R
R
R
MU1
SiO2+Al2O3
1.48
Q
Q
R

中屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
フッ化ランタン
LaF3
1.58
Q
Q
R
フッ化セリウム
CF3
1.63
Q
Q
R
酸化アルミニウム
Al2O3
1.63
R
R
R
酸化マグネシウム
MgO
1.70
Q
Q
R
MG-01
Al2O3+La2O3
1.70
Q
Q
R
酸化イットリウム
Y2O3
1.87
Q
Q
R

高屈折率材料

製品名
化学記号
屈折率(550nm)
アーチ状
タブレット
顆粒状
一酸化ケイ素
SiO
1.90
Q
R
R
酸化ハフニウム
HfO2
1.95
Q
R
R
酸化ジルコニウム
ZrO2
2.05
R
R
R
GL2
Ta2O5+ZrO2
2.10
Q
R
Q
五酸化タンタル
Ta2O5
2.10
Q
R
R
MU5
ZrO2+TiO2
2.10
R
R
Q
MU2
LaTiO3
2.10
Q
R
R
GL7
Ta2O5+TiO2
2.13
Q
R
R
MU2-C
LaTiO3
2.15
Q
R
R
五酸化ニオプ
Nb2O5
2.25
Q
Q
R
酸化セリウム
CeO2
2.35
Q
Q
R
フッ化マグネシウム
MgF2
1.38
R
Q
Q
一酸化チタン
TiO
2.35
Q
R
R
二酸化チタン
TiO2
2.35
Q
R
R
三酸化二チタン
Ti2O3
2.35
Q
R
R
MU3
Ti3O5
2.35
Q
R
R
硫化亜鉛
ZnS
2.4/1200nm
Q
Q
R
シリコン
Si
3.4/3000nm
Q
R
R
ゲルマニウム
Ge
4.4/2000nm
Q
R
R

その他

アルミニウム

aluminum

クロム

chromium

インジウム

indium

etc

etc

応用分野

TFT液晶

Thin-film-transistor LCD

タッチパネル

Touch panel

太陽電池

Solar cell

建築Low-Eガラス

Low-E glass

自動車ガラス

Automobile glass

スパッタリングターゲット

酸化物

製品名
元素記号
密度
融点
Risk and Safety Indication
Aluminum oxide
Al2O3
3.98
2020
CAS No.1344-28-1
Hafnium oxide
HfO2
9.68
2812
CAS No.12055-23-1
Columbium pentoxide
Nb2O5
4.47
1530
CAS No.1313-96-8
Silicon deoxide
SiO2
2.1
1713
CAS No.7631-86-9
Stannic oxide
SnO2
6.95
1630
CAS No.18282-10-5
Tantalum pentoxide
Ta2O5
8.74
1800
CAS No.1314-61-0
Titanium oxide
TiOX
4.29
1850
    
Zirconim deoxide
ZrO2
5.49
2715
CAS No.1314-23-4

金属

製品名
元素記号
密度
融点
Risk and Safety Indication
Aluminum
Al
2.702
660
CAS No.7429-90-5
Chromium
Cr
7.19
1857
CAS No.7440-47-3
Copper
Cu
8.96
1084.6
CAS No.7440-50-8 | R48 / 20 / 22
Iron
Fe
7.874
1535
CAS No.7439-89-6 | R48 / 20 / 22
Hafnium
Hf
13.31
2227
CAS No.7440-58-6 | S3 / 14
Molybdenum
Mo
10.22
2617
CAS No.7439-98-7
Niobium
Nb
8.57
2460
CAS No.7440-3-1
Momocrystaline silicon
Si
2.33
1410
CAS No.7440-21-3
Tantalum
Ta
16.65
2990
CAS No.7440-25-7
Titanium
Ti
4.5
1660
CAS No.7440-32-6 | S3 / 14
Zirconim
Zr
6.51
1852
CAS No.7440-67-7

合金

製品名
元素記号
Risk and Safety Indication
Aluminum+Copper
Al+Cu
CAS No.7429-90-5 / 7440-50-8 | R48 / 20 / 22
Aluminum+Silicon
Al+Si
CAS No.7429-90-5 / 7440-21-3
Chromium+Silicon
Cr+Si
CAS No.7440-47-3 / 7440-21-3
Copper+Nickel
Cu+Ni
CAS No.7440-50-8 / 7440-02-0 | R48 / 20 / 22
Copper+Zinc
Cu+Zn
CAS No.7440-50-8 / 7440-66-6 | R48 / 20 / 22
Nickel+Chromium
Ni+Cr
CAS No.7440-02-0 / 7440-47-3
Titanium+Aluminum
Ti+Al
CAS No.7440-32-6 / 7440-90-5
Titanium+Chromium
Ti+Cr
CAS No.7440-32-6 / 7440-47-3
Titanium+Copper
Ti+Cu
CAS No.7440-32-6 / 7440-50-8
Titanium+Copper
Ti+Cu
CAS No.7440-32-6 / 7440-50-8
Titanium+Nickel
Ti+Ni
CAS No.7440-32-6 / 7440-02-0
Titanium+Silicon
Ti+Si
CAS No.7440-32-6 / 7440-21-3
Zirconim+Hafnium
Zr+Hf
CAS No.7440-67-7 / 7440-58-6

その他

応用分野

半導体産業

Semiconductor industry

ディスプレイ技術

Display technology

太陽電池の製造

Solar cell manufacturing

光学コーティング

Optical coating

蒸着材料関連部品

ハースライナー

ハースライナー

hearth liner

フィラメント

filament

抵抗加熱ボード

resistance heating board

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ーー fu jian(福建)

Fujian Acetron

事業内容:蒸着材、ターゲット材の生産

Production of deposition materials and target materials.

PRODUCT

製品情報

MATERIAL

薄膜マテリアル

QUARTZ

石英加工部品

ADVANCED

先進機器材料

OTHER

その他

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